納米ZrO2在O2/H2氣中的表面效應

用ESR方法研究了一種納米ZrO2在普通H2氣中升溫條件下的表面效應. ZrO2上Zr3+的中心量約為1×10-7 mol/g. 這些Zr3+中心是ZrO2表面一些O2-配位不飽和的Zr原子點位. 在普通H2氣中, ZrO2上的Zr3+中心數(shù)在溫度低于400 ℃時變化很小. 但在這一溫度范圍內(nèi)從室溫升溫時, 由ZrO2表面羥基的H2還原引起的F中心量隨溫度的升高而增加. 溫度高于400 ℃時, ZrO2表面的Zr3+及F中心可與普通H2氣中存在的少量O2氣作用產(chǎn)生O-2, 并伴隨ZrO2表面羥基的脫除而形成新的Zr3+.

作 者： 王新平 趙沁 林青松 蔡天錫   作者單位： 大連理工大學化工學院,精細化工國家重點實驗室,大連,116012  刊 名： 高等學校化學學報  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES  年，卷(期)： 2002 23(7)  分類號： O643.1  關鍵詞： ZrO2   O2/H2   表面效應   Zr3+中心   F中心  

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