電子與太陽(yáng)電磁射線綜合輻照對(duì)Teflon FEP/Al光學(xué)性能的影響

在30keV的電子、質(zhì)子單獨(dú)輻照及電子與太陽(yáng)電磁射線綜合輻照作用下,對(duì)Teflon FEP/Al第二表面鏡光學(xué)性能的演化進(jìn)行了研究.試驗(yàn)結(jié)果表明,在相同輻照通量與能量乘積的情況下,電子與質(zhì)子單獨(dú)輻照后Teflon FEP/Al涂層材料的太陽(yáng)吸收比變化相同,故可用電子與太陽(yáng)電磁射線綜合輻照簡(jiǎn)化地面模擬加速試驗(yàn).Teflon FEP/Al光學(xué)性能退化動(dòng)力學(xué)曲線可描述成加速系數(shù)與輻照時(shí)間乘積(稱為當(dāng)量輻照時(shí)間)的指數(shù)函數(shù)形式.在當(dāng)量輻照時(shí)間相同的情況下,太陽(yáng)吸收比的變化與加速系數(shù)無(wú)關(guān).

作 者： 李春東 楊德莊 何世禹 M.M.Mikhailov   作者單位： 李春東,楊德莊,何世禹(哈爾濱工業(yè)大學(xué),空間材料與環(huán)境工程實(shí)驗(yàn)室,黑龍江,哈爾濱,150001)

M.M.Mikhailov(托姆斯克控制與電子技術(shù)國(guó)立大學(xué),空間材料實(shí)驗(yàn)室,俄羅斯,托姆斯克,634034) 

刊 名： 強(qiáng)激光與粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2002 14(6)  分類號(hào)： O483 O433.4  關(guān)鍵詞： 熱控涂層   輻照   光學(xué)性能   地面模擬   加速試驗(yàn)  

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